+7 (495) 921-30-82 | |
Персональный раздел Товаров в корзине: нет |
/a href="/price/price.zip">скачать прайс-лист
Каталог товаровНовости технологий
05.04.2021
Активное шумоподавление и 28 часов автономной работы за 3000 рублей. Беспроводные наушники Realme Buds Air 2 Neo порадуют характеристиками и ценой
Подробнее
04.04.2021
Поворотный момент: доли двух- и восьмиядерных процессоров в игровых ПК практически сравнялись, популярность шестиядерных CPU стремительно растёт
Подробнее
02.04.2021
Google идет по пути Apple. В Google Pixel 6 будет использоваться процессор собственной разработки
Подробнее Новости компании |
Новости
26.04.2010
В IBM придумали альтернативу электроннолучевой литографии
Специалисты исследовательского подразделения компании IBM продемонстрировали технологию, с помощью которой они могут формировать объемные структуры на атомном уровне. По словам исследователей, новый метод превосходит электроннолучевую литографию по скорости и разрешению, будучи более экономичным. В демонстрационных целях ученые изготовили карту Земли размерами 22 x 11 мкм и объемную модель горы Маттерхорн (4478 м) высотой 25 мкм. На создание микроскопического изображения было затрачено менее трех минут. Инструментом выступил кремниевый щуп, подобный тем, которые используются в сканирующем атомно-силовом микроскопе. Длина щупа равна 500 нанометров, а ширина кончика — всего лишь несколько нанометров. Ученые закрепили наконечник на гибкой консоли, способной сканировать любую поверхность с точностью до одного нанометра. В компании намерены использовать разработку для формирования структур при создании прототипов электронных схем, рассчитанных на изготовление по технологии CMOS, оптических компонентов, шаблонов для самосборки наноструктур. Работа установки напоминает работу фрезерного станка: за счет нагрева и механического усилия, щуп гравирует поверхность подложки. Модулируя температуру и силу, исследователи получили возможность слой за слоем отсекать ненужные части поверхности, подобно тому, как это делает скульптор. Достигнутое на данный момент разрешение составляет 15 нм. Это вдвое выше, чем уровень, достигнутый в полупроводниковом производстве с применением электроннолучевой литографии.Источник: iXBT.com |