скачать прайс-лист

Каталог товаров




Новости технологий

21.11.2018

Дырявый дисплей Samsung Galaxy S10 изготовлен по технологии Hall In Active Area


Подробнее
19.11.2018

Очередное обновление для Windows 10 принесло новые проблемы


Подробнее
16.11.2018

Представлена видеокарта Radeon RX 590. Первые тесты оказались противоречивы


Подробнее
14.11.2018

Смартфон Xiaomi Mi 8 Pro прибыл в Россию


Подробнее

Новости компании

19.04.2016


Распродажа ноутбуков и планшетов HP. Срок акции с 19 по 29 апреля. Спешите!

Подробнее
03.12.2015

Первая модель ноутбука из серии HP ProBook 450 G3 DSC уже на складе! Подробнее
01.12.2015

Предновогодняя распродажа ноутбуков УЖЕ СЕГОДНЯ! Подробнее
23.04.2014

График работы нашей компании на майские праздники.
Подробнее
купить Принтер Epson Stylus Photo R2000

Новости

26.04.2010 В IBM придумали альтернативу электроннолучевой литографии

Специалисты исследовательского подразделения компании IBM продемонстрировали технологию, с помощью которой они могут формировать объемные структуры на атомном уровне. По словам исследователей, новый метод превосходит электроннолучевую литографию по скорости и разрешению, будучи более экономичным. В демонстрационных целях ученые изготовили карту Земли размерами 22 x 11 мкм и объемную модель горы Маттерхорн (4478 м) высотой 25 мкм.

На создание микроскопического изображения было затрачено менее трех минут. Инструментом выступил кремниевый щуп, подобный тем, которые используются в сканирующем атомно-силовом микроскопе. Длина щупа равна 500 нанометров, а ширина кончика — всего лишь несколько нанометров. Ученые закрепили наконечник на гибкой консоли, способной сканировать любую поверхность с точностью до одного нанометра.

В компании намерены использовать разработку для формирования структур при создании прототипов электронных схем, рассчитанных на изготовление по технологии CMOS, оптических компонентов, шаблонов для самосборки наноструктур.

Работа установки напоминает работу фрезерного станка: за счет нагрева и механического усилия, щуп гравирует поверхность подложки. Модулируя температуру и силу, исследователи получили возможность слой за слоем отсекать ненужные части поверхности, подобно тому, как это делает скульптор.

Достигнутое на данный момент разрешение составляет 15 нм. Это вдвое выше, чем уровень, достигнутый в полупроводниковом производстве с применением электроннолучевой литографии.

Источник: iXBT.com

Возврат к списку